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電子束光刻系統(tǒng)

電子束光刻系統(tǒng)是Raith的核心業(yè)務(wù)。我們豐富的產(chǎn)品組合，涵蓋從全自動(dòng)高分辨率系統(tǒng)到多功能工具，可以為您提供理想的EBL系統(tǒng)，以滿(mǎn)足您的需求。

電子束光刻系統(tǒng)

FIB-SEM納米加工系統(tǒng)

Raith獨(dú)特的FIB-SEM系統(tǒng)定義FIB為優(yōu)先技術(shù)。由場(chǎng)發(fā)射SEM和Raith公司獨(dú)特的激光干涉儀工作臺(tái)支持，F(xiàn)IB-SEM納米光刻系統(tǒng)滿(mǎn)足了研發(fā)納米原型以及樣品制備和顯微技術(shù)中最苛刻的要求。

VELION

大面積掃描電鏡成像

高效、全自動(dòng)的納米測(cè)量和過(guò)程控制與Raith的高精度激光干涉儀臺(tái)相結(jié)合，是Raith掃描電子顯微鏡精確大面積圖像采集解決方案的基礎(chǔ)。雖然它對(duì)逆向工程應(yīng)用尤其有價(jià)值，但它對(duì)任何需要納米分辨率超過(guò)cm2和用于重建的優(yōu)秀層到層3D精度的應(yīng)用都是有益的。

CHIPSCANNER

納米光刻升級(jí)組件

我們的納米光刻升級(jí)組件提供了簡(jiǎn)單和具成本效益的專(zhuān)業(yè)納米光刻和納米制造。只需將該組件與現(xiàn)有的SEM、FIB、FIB-SEM或HIM相結(jié)合，即可作為納米光刻系統(tǒng)使用。

ELPHY

公司簡(jiǎn)介

Raith是納米制造、電子束光刻、FIB SEM納米制造、納米工程和逆向工程應(yīng)用的先進(jìn)精密技術(shù)制造商?？蛻?hù)包括參與納米技術(shù)研究和材料科學(xué)各個(gè)領(lǐng)域的大學(xué)和其他組織，以及將納米技術(shù)用于特定產(chǎn)品應(yīng)用或生產(chǎn)復(fù)合半導(dǎo)體的工業(yè)和中型企業(yè)。Raith成立于1980年，總部位于德國(guó)多特蒙德，擁有超過(guò)250名員工。公司通過(guò)在荷蘭、美國(guó)和亞洲的子公司，以及廣泛的合作伙伴和服務(wù)網(wǎng)絡(luò)，與全球重要市場(chǎng)的客戶(hù)密切合作。


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